2×2個球ターゲットのプラズマ源イオン注入ドーズの均一性

CONRAD J R; BAUMANN S; FLEMING R; MEEKER G P

文献

J-GLOBAL ID：200902027117733707 整理番号：89A0347288

2×2個球ターゲットのプラズマ源イオン注入ドーズの均一性

Plasma source ion implantation dose uniformity of a 2×2 array of spherical targets.

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資料名：
巻： 65 号： 4 ページ： 1707-1712 発行年： 1989年02月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Rutherford後方散分光と二次イオン質量分析を用いて半...

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放射線による構造と物性の変化一般

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