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J-GLOBAL ID：200902027350965146   整理番号：92A0448818

ホットプレスした窒化けい素の酸化による亀裂治癒挙動

Crack healing behavior of hot pressed silicon nitride due to oxidation.

著者 (2件)： CHOI S R (Cleveland State Univ., Ohio, USA) ,  TIKARE V (NASA Lewis Research Center, Ohio, USA)
資料名： Scripta Metallurgica et Materialia  (Scripta Metallurgica et Materialia)
巻： 26  号： 8  ページ： 1263-1268  発行年： 1992年04月15日 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 0956-716X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MgOを含む標記セラミック材料を800°C以上で僅かに酸化させ...

シソーラス用語： ホットプレス ,...

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分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： ホットプレス ,  窒化けい素 ,  酸化 ,  亀裂治癒 ,  挙動