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J-GLOBAL ID：200902029668602762   整理番号：86A0114165

集束イオンビームによる微細加工の半導体への応用

Semiconductor applications of focused ion beam micromachining.
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著者 (2件)：
SHAVER D C

SHAVER D C について

(Micrion Corp., Massachusetts)

Micrion Corp., Massachusetts について

, 
WARD B W

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(Micrion Corp., Massachusetts)

Micrion Corp., Massachusetts について


資料名：
Solid State Technology  (Solid State Technology)

Solid State Technology について


巻： 28  号： 12  ページ： 73-78  発行年： 1985年12月 
JST資料番号： E0226A  ISSN： 0038-111X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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サブミクロン域の微細加工を得意とする,集束イオンビーム加工装...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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イオンビーム加工

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FIB

FIB について


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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

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タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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集束イオンビーム

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微細加工

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, 
応用

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