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J-GLOBAL ID：200902030857096051   整理番号：90A0851283

ウエハの電気化学的および化学溶解によるシリコン量子細線アレイの製作

Silicon quantum wire array fabrication by electrochemical and chemical dissolution of wafers.

著者 (1件)： CANHAM L T (Royal Signals and Radar Establishment, Worcestershire, GBR)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 57  号： 10  ページ： 1046-1048  発行年： 1990年09月03日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エピタキシャル堆積あるいはリソグラフィーを使用しなくても,自...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 半導体-半導体接触【’81~’92】  (BM03072N) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (8件)： ウエハ ,  電気化学 ,  化学 ,  溶解 ,  シリコン ,  量子細線 ,  アレイ ,  製作