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J-GLOBAL ID：200902030887406454   整理番号：92A0431482

FT-PMスパッタ法によるAlN膜作製時の基板温度依存性

Substrate Temperature Dependence of AlN Film by Planar Magnetron Sputtering with Facing Targets.

著者 (4件)： 今井拓 (徳島大 工) ,  白井正樹 (徳島大 工) ,  末吉康彦 (徳島大 工) ,  富永喜久雄 (徳島大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 39th  号： Pt 2  ページ： 411  発行年： 1992年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： Pm ,  スパッタ法 ,  AlN ,  作製 ,  温度依存性