エキシマレーザアブレーションを用いたBaTiO<sub>3</sub>薄膜のエピタキシャル成長

DAVIS G M; GOWER M C

文献

J-GLOBAL ID：200902031399837698 整理番号：89A0489155

エキシマレーザアブレーションを用いたBaTiO₃薄膜のエピタキシャル成長

Epitaxial growth of thin films of BaTiO₃ using excimer laser ablation.

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資料名：
巻： 55 号： 2 ページ： 112-114 発行年： 1989年07月10日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

焼結BaTiO₃にXeClエキシマレー...

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その他の無機化合物の薄膜 , レーザ照射・損傷

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エキシマレーザアブレーションを用いたBaTiO3薄膜のエピタキシャル成長

エキシマレーザアブレーションを用いたBaTiO₃薄膜のエピタキシャル成長