反応性スパッタ蒸着の窒化インジウム膜の性質に対する酸素混入の効果

WESTRA K L; LAWSON R P W; BRETT M J

文献

J-GLOBAL ID：200902031530321112 整理番号：89A0063248

反応性スパッタ蒸着の窒化インジウム膜の性質に対する酸素混入の効果

The effects of oxygen contamination on the properties of reactively sputtered indium nitride films.

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資料名：
巻： 6 号： 3 Pt.2 ページ： 1730-1732 発行年： 1988年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

純窒素雰囲気中でのインジウムターゲットの直流プレーナマグネト...

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半導体薄膜

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