文献
J-GLOBAL ID：200902033452987578   整理番号：92A0719642

ドライプラズマによるレジスト除去 装置の概観

Dry Plasma Resist Stripping. Part I: Overview of Equipment.
  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=92A0719642&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0226A") }}
著者 (1件)：
FLAMM D L

FLAMM D L について


資料名：
Solid State Technology  (Solid State Technology)

Solid State Technology について


巻： 35  号： 8  ページ： 37-39  発行年： 1992年08月 
JST資料番号： E0226A  ISSN： 0038-111X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
微細回路素子製造でホトレジの除去は最も一般的な工程であり,長...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
フォトレジスト

フォトレジスト について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
プラズマプロセシング

プラズマプロセシング について

,...
   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=92A0719642&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0226A") }}
分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
プラズマ

プラズマ について

, 
レジスト

レジスト について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM