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J-GLOBAL ID：200902033917588136   整理番号：91A0515406

特集 最近のプロセス技術 仮焼合成粉末のサブミクロン粉砕

Special issue : recent process technology.Submicron crushing of calcination applied synthetic powder.

著者 (1件)： 田代新二郎 (防衛大)
資料名： エレクトロニク・セラミクス  (Electronic Ceramics)
巻： 22  号： 104  ページ： 22-26  発行年： 1991年02月 
JST資料番号： S0097A  ISSN： 0387-7337  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子セラミクス材料に関する微粉砕の実例を概観し,粉砕速度,粉...

シソーラス用語： セラミック ,...

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分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： プロセス ,  仮焼 ,  粉末 ,  サブ ,  粉砕