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J-GLOBAL ID：200902034059162296   整理番号：92A0056552

Micro grating device using electron-beam lithography.

著者 (2件)： YAMASHITA T (Omron Corp., Kyoto, JPN) ,  AOYAMA S (Omron Corp., Kyoto, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 1507  ページ： 81-93  発行年： 1991年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)