文献

J-GLOBAL ID：200902034269126640   整理番号：92A0277167

シリコン酸化中における界面伝搬の動的観察

Dynamic Observations of Interface Propagation during Silicon Oxidation.

著者 (2件)： ROSS F M (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  GIBSON J M (AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名： Physical Review Letters  (Physical Review Letters)
巻： 68  号： 11  ページ： 1782-1785  発行年： 1992年03月16日 
JST資料番号： H0070A  ISSN： 0031-9007  CODEN： PRLTAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化中におけるSi(111)/酸化物界面の性質と運動を透過電...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン ,  酸化 ,  界面 ,  伝搬 ,  観察