文献

J-GLOBAL ID：200902034672058000   整理番号：91A0678714

多孔性シリコン膜の陽極酸化時にみられる可視域エレクトロルミネセンス

Electroluminescence in the visible range during anodic oxidation of porous silicon films.

著者 (8件)： HALIMAOUI A (Centre National d’Etudes des T<span style=text-decoration:overline>e ́</span>l<span style=text-decoration:overline>e ́</span>communications, Meylan, FRA) ,  OULES C (Centre National d’Etudes des T<span style=text-decoration:overline>e ́</span>l<span style=text-decoration:overline>e ́</span>communications, Meylan, FRA) ,  BOMCHIL G (Centre National d’Etudes des T<span style=text-decoration:overline>e ́</span>l<span style=text-decoration:overline>e ́</span>communications, Meylan, FRA) ,  BSIESY A (Univ. Joseph Fourier de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA) ,  GASPARD F (Univ. Joseph Fourier de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA) ,  HERINO R (Univ. Joseph Fourier de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA) ,  LIGEON M (Univ. Joseph Fourier de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA) ,  MULLER F (Univ. Joseph Fourier de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 59  号： 3  ページ： 304-306  発行年： 1991年07月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多孔性シリコン/シリコン基板構造で,標記現象を観測した。光学...

シソーラス用語： ケイ素 ,...
準シソーラス用語： 陽極酸化

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=91A0678714&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多孔性 ,  シリコン膜 ,  陽極酸化 ,  エレクトロルミネセンス