rfスパッタ非晶質Si:Hにおける電子輸送におよぼすAlの影響

文献

J-GLOBAL ID：200902037961402118 整理番号：86A0457360

The influence of aluminium upon electronic transport in r.f. sputtered amorphous Si:H.

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巻： 53 号： 5 ページ： 383-390 発行年： 1986年05月
JST資料番号： H0004B ISSN： 1364-2812 CODEN： PMABDJ 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

標記Si:HにおいてAl濃度を増やすと,直流暗伝導度の活性化...

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非晶質・液体半導体の電気伝導

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