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J-GLOBAL ID：200902039185075414   整理番号：90A0794192

4-アルコキシ(またはシリルオキシ)シクロヘキサノンのCieplak型還元における立体選択性の発生,改変,及び増大

Generalization, alteration, and enhancement of the stereoselectivity in the Cieplak-mode reductions of 4-alkoxy(or silyloxy)cyclohexanones.

著者 (3件)： NAGAO Y (Kyoto Univ., Kyoto) ,  GOTO M (Kyoto Univ., Kyoto) ,  OCHIAI M (Kyoto Univ., Kyoto)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
号： 9  ページ： 1507-1510  発行年： 1990年09月 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標題化合物をLiAlH₄,AlH(i-...

シソーラス用語： 還元 ,...
準シソーラス用語： シクロヘキサノン誘導体 ,...

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分類 (2件)： シクロヘキサン系  (CF04050W) ,  反応の立体化学  (CF02130V)

引用文献 (24件)：

• 1) M. Ochiai, S. Iwaki, T. Ukita, Y. Matsuura, M. Shiro, and Y. Nagao, J. Am. Chem. Soc., 110, 4606 (1988).
• 2) A. S. Cieplak, J. Am. Chem. Soc., 103, 4540 (1981).
• 3) C. K. Cheung, L. T. Tseng, M.-H. Lin, S. Srivastava, and W. J. le Noble, J. Am. Chem. Soc., 108, 1598 (1986);
•  S. Srivastava and W. J. le Noble, J. Am. Chem. Soc., 109, 5874 (1987);
•  C. K. Cheung, N. J. Turro, S. Srivastava, H. Li, and W. J. le Noble, J. Am. Chem. Soc., 110, 7882 (1988).

タイトルに関連する用語 (4件)： シクロヘキサノン ,  還元 ,  立体選択性 ,  改変