文献
J-GLOBAL ID：200902039456835665   整理番号：89A0104791

微細光加工とフォトレジスト材料

Photoresist materials for microlithography.
著者 (1件)：
山岡亜夫

山岡亜夫 について

(千葉大 工)

千葉大 工 について


資料名：
日本写真学会誌  (日本写真学会会誌)

日本写真学会誌 について


巻： 51  号： 6  ページ： 475-489  発行年： 1988年12月 
JST資料番号： G0165A  ISSN： 0369-5662  CODEN： NSGKAP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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集積回路などの微細光加工とフォトレジストについて解説した。フ...
シソーラス用語：
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フォトレジスト

フォトレジスト について

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ジヒドロナフタレン誘導体

ジヒドロナフタレン誘導体 について

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分類 (2件)：
分類
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各種写真法 
(ZA03040M)

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,  その他の高分子の反応 
(CG03040H)

その他の高分子の反応 について

引用文献 (64件)：
  • 1) L. M. Minsk, J. G. Smith, W. P. Van Deusen, J. F. Wricht, J. Appl. Polym. Sci., 2, 302 (1957)
  • 2) E. Kodak, USP 2852379 (1958)
  • E. Kodak, USP 2940853 (1960)
  • 3) P. R. West, B. F. Griffing, Proc. SPIE, 394, 33 (1983)
  • 4) 特開昭59-104642 (GE)
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タイトルに関連する用語 (2件)：
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フォト

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レジスト材料

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