文献

J-GLOBAL ID：200902041038370928   整理番号：87A0486812

シリコンウエハのレーザ走査における粒子サイズ測定の不確定性 Aeroncaウエハ検査システム150の校正/評価

Particle sizing uncertainties in laser scanning of silicon wafers. Calibration/evaluation of the Aeronca wafer inspection system 150.

著者 (2件)： LOCKE B R (Research Triangle Inst., NC, USA) ,  DONOVAN R P (Research Triangle Inst., NC, USA)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 134  号： 7  ページ： 1763-1771  発行年： 1987年07月 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siウエハなどの反射面上に存在する粒子からの光散乱が,粒子の...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=87A0486812&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0285A") }}

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (8件)： シリコンウエハ ,  レーザ走査 ,  粒子サイズ測定 ,  不確定性 ,  ウエハ ,  検査システム ,  校正 ,  評価