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J-GLOBAL ID：200902042789109938   整理番号：89A0015414

ハイオルソノボラック樹脂のポジ型フォトレジストへの応用

Applications of high-ortho novolak resins to photoresist materials.

著者 (2件)： 花畑誠 (住友化学工業 大阪研) ,  古田秋弘 (住友化学工業 大阪研)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 45  号： 10  ページ： 803-808  発行年： 1988年10月 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： オルト-オルト結合率の高い標題樹脂をポジ型フォトレジストに適...

シソーラス用語： ノボラック ,...
準シソーラス用語： ハイオルソノボラック ,...

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分類 (1件)： その他の高分子の反応  (CG03040H)

引用文献 (6件)：

• 1) H.G. Peer, Rec. Tray. Chim., 79, 825 (1966).
• 2) H.L. Bender, Mod. Plastics, 30, 136 (1953).
• 3) H.L. Bender, A.G. Farnham, J.W. Guyer, F.N. Apel, T.B. Gibb, Ind. Eng. Chem., 44, 1619 (1952).
• 4) G.A. Morris and R. Freeman, J. Am. Chem. Soc., 101, 760 (1979).
• 5) R.W. Wake and M.C. Flanigan, SPIE Proc., 539, 291 (1985).

タイトルに関連する用語 (2件)： ポジ型フォトレジスト ,  応用