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J-GLOBAL ID：200902044573144006   整理番号：88A0171973

高T_c超伝導膜のパルス型レーザエッチング

Pulsed laser etching of high T_c superconducting films.

著者 (6件)： INAM A (Rutgers Univ., NJ, USA) ,  WU X D (Rutgers Univ., NJ, USA) ,  VENKATESAN T (Bell Communications Research, Inc., NJ, USA) ,  OGALE S B (Bell Communications Research, Inc., NJ, USA) ,  CHANG C C (Bell Communications Research, Inc., NJ, USA) ,  DIJKKAMP D (Bell Communications Research, Inc., NJ, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 51  号： 14  ページ： 1112-1114  発行年： 1987年10月05日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルス状エキシマレーザ(248nm,30ns)を用いて,Y-...

シソーラス用語： イットリウム化合物 ,...

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分類 (1件)： その他の粒子光学  (BD02080I)

タイトルに関連する用語 (4件)： Tc ,  超伝導膜 ,  パルス ,  レーザエッチング