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J-GLOBAL ID：200902045817630834   整理番号：87A0442570

シリコンとゲルマニウム中のナトリウム不純物の拡散と伝導率

Diffusion and conductivity of sodium impurity in silicon and germanium.
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著者 (1件)：
HO L T

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(Academia Sinica, Taipei, CHN)

Academia Sinica, Taipei, CHN について


資料名：
18th International Conference on the Physics of Semiconductors, 1986, Vol.2  (18th International Conference on the Physics of Semiconductors, 1986, Vol.2)

18th International Conference on the Physics of Semiconductors, 1986, Vol.2 について


ページ： 1193-1196  発行年： 1986年 
JST資料番号： K19870208  ISBN： 9971-50-197-X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： シンガポール (SGP)  言語： 英語 (EN)
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I族元素であるLiはSiとGe中ではドナーとなり格子間位置を...
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ケイ素

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分類 (1件)：
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固体中の拡散一般 
(BL06021L)

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