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J-GLOBAL ID：200902046615389260   整理番号：86A0424955

クラスターイオンビーム技術とその応用

Ionized cluster beam technique and its applications for deposition and epitaxy.

著者 (1件)： 高木俊宜 (京大工)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 55  号： 8  ページ： 746-763  発行年： 1986年08月 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 巨大クラスタ,すなわち100~2000個の原子が互いに緩く結...

シソーラス用語： クラスタ分子 ,...

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分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

引用文献 (71件)：

• 1) 高木俊宜:応用物理 53 (1984) 695.
• 2) 高木俊宜:応用物理 51 (1982) 1070.
• 3) T. Takagi, I. Yamada, M. Kunori and S. Kobiyama: Proc. 2nd int. Conf. Ion Sources, Vienna (Österreichische Studiengesellshaft für Atomenergie, Vienna, 1972) p. 790.
• 4) T. Takagi: Thin Solid Films 92 (1982) 1.
• 5) T. Takagi: Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 27 (1984) 501.

タイトルに関連する用語 (2件)： クラスターイオンビーム ,  応用