文献

J-GLOBAL ID：200902048395591740   整理番号：90A0546588

フォトレジストのためのジアリールヨードニウム塩の合成と反応性

Synthesis and reactivity of some diaryliodonium salts for photoresist application.

著者 (2件)： HONG X-Y (Tsinghua Univ., Beijing, CHN) ,  FENG H-B (Inst. Chemistry, Academia Sinica, Beijing, CHN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 3  号： 3  ページ： 327-334  発行年： 1990年06月 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光解離で酸生成するヨードニウム塩の吸収を300nm以上の長波...

シソーラス用語： フォトレジスト ,...
準シソーラス用語： 光橋架け ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=90A0546588&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

分類 (1件)： 各種写真法  (ZA03040M)

引用文献 (6件)：

• 1). J. V. Crivello, in UV Curing: Science and Technology, S.P. Pappas, (ed.), Technology Marketing Corp., Norwalk, 1978, pp.23-77.
• 2). J. C. Dubois, A. Eraian, and E. Datmanti, Proceeding of the Symposium on Electron and Ion Beam Science and Technology, 8th Interational Conference, 940(1978).
• 3). H. Ito and C. G. Willson, ACS Div. Org. Coat. Plast. Chem., Prepr. 1983, 60.
• 4). J. V. Crivello, ACS Div. Org. Coat. Plast. Chem., 65.
• 5). S. P. Pappas, Polymer Photochemistry, 5 (1984), 1-22.

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトレジスト ,  塩 ,  反応性