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J-GLOBAL ID：200902050856226688   整理番号：90A0592780

UVオゾンによる炭素化合物の除去

Remouing carbon compounds by UV ozone.
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著者 (1件)：
本間孝治

本間孝治 について

(ケミトロニクス)

ケミトロニクス について


資料名：
Surface Control & 洗浄設計

Surface Control & 洗浄設計 について


号： 45  ページ： 45-52  発行年： 1990年 
JST資料番号： Y0281A  ISSN： 0911-3916  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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炭素化合物が中心となる有機物汚染を対象とした,UVオゾン洗浄...
シソーラス用語：
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半導体工業

半導体工業 について

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分類 (1件)：
分類
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ガス化学工業 
(YB02070O)

ガス化学工業 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
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オゾン

オゾン について

, 
炭素化合物

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