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J-GLOBAL ID：200902054699274105   整理番号：88A0352464

ゾル・ゲル法による磁性酸化物薄膜の作成

Preparation of magnetic oxide thin films by Sol-Gel synthesis.

著者 (5件)： 山口一弘 (豊橋技科大) ,  金子明 (ヤマハ 基礎研) ,  蔵之内真一 (豊橋技科大) ,  上野晃史 (豊橋技科大) ,  藤井寿崇 (豊橋技科大)
資料名： 日本応用磁気学会誌  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 12  号： 2  ページ： 343-346  発行年： 1988年04月 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 0285-0192  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子機能セラミック作成に関する研究の一環として,酸化鉄系薄膜...

シソーラス用語： ゾル-ゲル法 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (5件)：

• 1) H. Dislich: J. Non-Cryst. Solids, 57, 371 (1983).
• 2) 近角聡信他篇:磁性体ハンドブック,第6章 p. 616,朝倉書店 (1975).
• 3) R. Chevallier: J. Phys. Rad., 12, 172 (1951).
• 4) Y. Goto: Jpn. J. Appl. Phys., 3, 742 (1964).
• 5) 上野晃史他:豊橋技術科学大学技術開発分析計測 · 工作センター年報,第5報,64 (1986).

タイトルに関連する用語 (3件)： ゾル・ゲル法 ,  磁性 ,  酸化物薄膜