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J-GLOBAL ID：200902056944567051   整理番号：89A0266284

アルミナ,シリコンおよび溶融石英上の超伝導Bi₂Sr₂CaCu₂O_8+x膜の成長

Growth of superconducting Bi₂Sr₂CaCu₂O_8+x films on alumina, silicon, and fused quartz.

著者 (4件)： HUNG L S (Eastman Kodak Co., NY, USA) ,  AGOSTINELLI J A (Eastman Kodak Co., NY, USA) ,  PAZ-PUJALT G R (Eastman Kodak Co., NY, USA) ,  MIR J M (Eastman Kodak Co., NY, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 53  号： 24  ページ： 2450-2452  発行年： 1988年12月12日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記の膜と基板との相互作用をイオン後方散乱,X線回折および四...

シソーラス用語： ビスマス化合物 ,...

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分類 (2件)： 超伝導の臨界的効果【’81~’92】  (BM04030U) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： アルミナ ,  シリコン ,  溶融石英 ,  伝導 ,  成長