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J-GLOBAL ID：200902059277424122   整理番号：89A0201385

真空蒸着層の厚さ均一性

Thickness uniformity of vacuum deposited layers.
著者 (5件)：
TODOROVA S

TODOROVA S について

(Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR)

Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR について

, 
POPOV D

POPOV D について

(Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR)

Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR について

, 
DIMITROV E

DIMITROV E について

(Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR)

Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR について

, 
DOCHEV D

DOCHEV D について

(Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR)

Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR について

, 
KANEV M

KANEV M について

(Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR)

Technical Univ. “A Kanchev”, Russe, BGR について


資料名：
Vacuum  (Vacuum)

Vacuum について


巻： 38  号： 8/10  ページ： 869-872  発行年： 1988年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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二極型直流イオンスパッタリング,マグネトロンスパッタリング,...
シソーラス用語：
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フェロクロム

フェロクロム について

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分類 (1件)：
分類
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薄膜成長技術・装置 
(BK14020I)

薄膜成長技術・装置 について

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タイトルに関連する用語
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真空蒸着

真空蒸着 について

, 
厚さ均一性

厚さ均一性 について


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