文献
J-GLOBAL ID:200902061254784606 整理番号:86A0354986
プラズマを用いた有機反応
Application of cold plasma in organic reaction.
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著者 (2件):
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資料名:
有機合成化学協会誌 (Journal of Synthetic Organic Chemistry, Japan)
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巻:
44
号:
5
ページ:
443-458
発行年:
1986年05月
JST資料番号:
F0383A
ISSN:
0037-9980
CODEN:
YGKKAE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
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引用文献 (150件):
1) 菅野卓雄編著, 「半導体プラズマプロセス技術」, 産業図書 (1980)
2) S. Matsumoto, Y. Sato, M. Tsutsumi, N. Setaka, J. Mater. Sci., 17, 3106 (1982)
3) S. Matsumoto, Y. Sato, M. Tsutsumi, N. Setaka, Jpn. J. Appl. Phys., 21, L 183 (1982)
4) R. E. Sah, B. Dischler, et al., AppL Phys. Lett., 46, 15 (1985)
5) Y. Catherrin, et al., Proc. 7th Int'l. Symp. on Plasma Chem., Eindhoven, 33 (1985)
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