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J-GLOBAL ID：200902061575170936   整理番号：84A0488234

プラズマ化学反応により生成したSi(Ge)微結晶の構造

著者 (1件)： 井村健 (広島大工)
資料名： 日本化学会誌  (化学と工業化学)
号： 10  ページ： 1707-1715  発行年： 1984年10月 
JST資料番号： F0226B  ISSN： 0369-4577  CODEN： NKAKB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： H₂ふん囲気中のSi,Geの化学スパッ...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

引用文献 (32件)：

• 1) J. Ogier, Bl. Soc. Chim., 32, 116(1879).
• H. N. Warren, Chem. N. 63, 241(1891).
• from“Gmelins H a ndbuch der anorganischen Chemie”, 15B, 250(1959).
• 2) H. F. Sterling, R. C. G. Swan, Solid State Electron., 8, 653(1965).
• 3) J. J. Hauser, Solid State Commun., 19, 1049(1976).

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマ化学反応 ,  Si ,  Ge ,  微結晶