文献
J-GLOBAL ID:200902062420723307
整理番号:87A0007785
Si/CaF2/Si積層SOI構造へのCMOSデバイスの形成
Formation of the CMOS device to the Si/CaF2/Si laminated SOI structure.
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{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=87A0007785©=1") }}
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{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=87A0007785&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0243A") }}