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J-GLOBAL ID:200902063303069490   整理番号:92A0633994

Hexafluoroacetone in Resist Chemistry: A Versatile New Concept for Materials for Deep UV Lithography.

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資料名:
巻: 1672  ページ: 500-512  発行年: 1992年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)

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