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J-GLOBAL ID：200902063303069490   整理番号：92A0633994

Hexafluoroacetone in Resist Chemistry: A Versatile New Concept for Materials for Deep UV Lithography.

著者 (3件)： PRZYBILLA K J (Hoechst AG, Frankfurt/M., DEU) ,  ROESCHERT H (Hoechst AG, Frankfurt/M., DEU) ,  PAWLOWSKI G (Hoechst AG, Frankfurt/M., DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 1672  ページ： 500-512  発行年： 1992年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)