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J-GLOBAL ID：200902065146846234   整理番号：92A0242593

強誘電体薄膜のプロセシングにおける進歩

Advances in Processing of Ferroelectric Thin Films.
著者 (1件)：
SHEPPARD L M

SHEPPARD L M について


資料名：
American Ceramic Society Bulletin  (American Ceramic Society Bulletin)

American Ceramic Society Bulletin について


巻： 71  号： 1  ページ： 85-95  発行年： 1992年01月 
JST資料番号： A0366A  ISSN： 0002-7812  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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強誘電体薄膜による不揮発性メモリは,高速伝達,高密度,照射硬...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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セラミック

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PZT【鉛化合物】

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分類 (3件)：
分類
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強誘電体,反強誘電体,強弾性 
(BM05030B)

強誘電体,反強誘電体,強弾性 について

,  酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

,  セラミック・磁器の性質 
(YC03030G)

セラミック・磁器の性質 について

タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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強誘電体薄膜

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プロセシング

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