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J-GLOBAL ID：200902065694809339   整理番号：90A0157611

プラズマ浸漬イオン注入のモデル

Model of plasma immersion ion implantation.
著者 (1件)：
LIEBERMAN M A

LIEBERMAN M A について

(Univ. California, California)

Univ. California, California について


資料名：
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

Journal of Applied Physics について


巻： 66  号： 7  ページ： 2926-2929  発行年： 1989年10月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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プラズマ浸漬イオン注入においてはターゲットはプラズマ中に浸漬...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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プラズマ応用

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分類 (1件)：
分類
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半導体の放射線による構造と物性の変化 
(BK16123E)

半導体の放射線による構造と物性の変化 について

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プラズマ浸漬イオン注入

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モデル

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