文献
J-GLOBAL ID:200902067592937351
整理番号:90A0200885
特集・次世代の絶縁膜形成技術 TEOS系CVD技術による絶縁膜形成と平坦化
Special article : Insulation film deposition technology toward next genretion. Insulation film deposition and flatness with TEOS based CVD technology.
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