MO-CVD法で形成したγ-Fe2O3薄膜の光電気化学的性質

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J-GLOBAL ID：200902067703919439 整理番号：88A0268858

MO-CVD法で形成したγ-Fe₂O₃薄膜の光電気化学的性質

Photoelectrochemical properties of thin γ-Fe₂O₃ films formed by MO-CVD technique.

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資料名：
巻： 52 号： 2 ページ： 189-198 発行年： 1988年02月
JST資料番号： G0023A ISSN： 0021-4876 CODEN： NIKGAV 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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光伝導,光起電力 , 光化学反応

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