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J-GLOBAL ID：200902068022641218   整理番号：91A0301446

ゾル-ゲル法によるGGG(111)基板上へのYIG薄膜のエピタキシャル成長

Epitaxial growth of YIG thin films on GGG(111) single crystals by a sol-gel method. (II).
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著者 (3件)：
高橋康隆

高橋康隆 について

(岐阜大 工)

岐阜大 工 について

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大地幸和

大地幸和 について

(岐阜大 工)

岐阜大 工 について

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佐々木堂

佐々木堂 について

(岐阜大 工)

岐阜大 工 について


資料名：
人工鉱物討論会講演要旨集

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巻： 35th  ページ： 17-18  発行年： 1990年09月 
JST資料番号： L0846A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
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ゾル-ゲル法

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GGG

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YIG

YIG について

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薄膜

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エピタキシャル成長

エピタキシャル成長 について


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