室温において電着された輝銅被膜の回収と再結晶化 I  被膜構造と微小硬度

文献

J-GLOBAL ID：200902069399411698 整理番号：86A0099443

Recovery and recrystallization of electrodeposited bright copper coatings at room temperature. I. Microhardness in relation to coating structure.

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巻： 15 号： 6 ページ： 879-886 発行年： 1985年11月
JST資料番号： B0393B ISSN： 0021-891X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

硫酸電解質から電着された輝銅被膜の微小硬度について,電解質構...

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電気めっき , 電解理論

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