BOUILLARD J X について
Argonne National Lab., IL, USA について
LYCZKOWSKI R W について
Argonne National Lab., IL, USA について
GIDASPOW D について
Illinois Inst. Technology, IL, USA について
AIChE Journal (American Institute of Chemical Engineers) について
流動層 について
間隙率 について
装置内の流れ について
内挿 について
障害物 について
流動層 について
空隙率 について
分布 について