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J-GLOBAL ID:200902071211449337   整理番号:85A0371873

反応性マグネトロンスパッタリング法による単結晶TiN膜の成長とその性質

Growth and properties of single crystal TiN films deposited by reactive magnetron sputtering.
著者 (5件):
資料名:
巻:号:ページ: 303-307  発行年: 1985年03月 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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その他の無機化合物の薄膜 
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