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J-GLOBAL ID：200902072569746380   整理番号：90A0864240

特集 次世代の配線技術 第2部 W-CVD技術 選択W-CVDによるスルーホール埋め込み技術

Special issue.Wiring technology of the next generation.Part two.W-CVD technology.Through hole filling technology by selection W-CVD.

著者 (4件)： 村尾幸信 (日本電気) ,  山崎孝二 (日本電気) ,  山田義明 (日本電気) ,  関根誠 (日本電気)
資料名： 月刊Semiconductor World  (月刊セミコンダクターワールド)
巻： 9  号： 15  ページ： 225-228  発行年： 1990年11月 
JST資料番号： Y0509A  ISSN： 0286-5025  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： CVD-Wによるスルーホール埋め込み技術には,ブランケットW...

シソーラス用語： 選択性 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 次世代 ,  CVD ,  スルーホール ,  埋め込み