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J-GLOBAL ID：200902072935849147   整理番号：92A0674673

投影パターンのコントラスト変化を利用した変位測定

Displacement measurement utilizing contrast variation of a projected pattern.

著者 (2件)： YOSHIZAWA T (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo, JPN) ,  TOCHIGI A (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo, JPN)
資料名： Optical Engineering  (Optical Engineering)
巻： 31  号： 8  ページ： 1726-1730  発行年： 1992年08月 
JST資料番号： B0577B  ISSN： 0091-3286  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 色や傾きの影響を考慮した標記測定システムを開発し,変位の光学...

シソーラス用語： 変位測定 ,...

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分類 (2件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  光学的測定とその装置一般  (BD07010S)

タイトルに関連する用語 (3件)： 投影 ,  コントラスト ,  変位測定