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J-GLOBAL ID：200902075503812071   整理番号：88A0121443

マイクロ波イオン源とICBシステムを同時に使用するアルミニウムの窒化膜と酸化膜の形成

Aluminum nitride and oxide film formation by the simultaneous use of a microwave ion source and an ICB system.
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著者 (4件)：
ISHIKAWA J

ISHIKAWA J について

(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

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, 
TAKAOKA H

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(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

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FUJIME K

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(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について

, 
TAKAGI T

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(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

Kyoto Univ., Kyoto, JPN について


資料名：
IPAT 87  (IPAT 87)

IPAT 87 について


ページ： 33-38  発行年： 1987年 
JST資料番号： K19870580  ISBN： 0-905941-18-7  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標記イオン源とイオン化クラスタビーム(ICB)システムを同時...
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マイクロ波

マイクロ波 について

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酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

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アルミニウム

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