文献

J-GLOBAL ID：200902077341304118   整理番号：86A0331667

結晶成長はどこまでミクロに制御できるか

Towards the possibility of the crystal growth technique with atomic-scale controllability.

著者 (3件)： 水田正志 (日本電気基礎研) ,  うす井彰 (日本電気基礎研) ,  渡辺久恒 (日本電気基礎研)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 55  号： 4  ページ： 325-332  発行年： 1986年04月 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 単原子精度の結晶成長技術は夢であると同時に将来の超格子IC時...

シソーラス用語： 単分子層 ,...
準シソーラス用語： ALE ,...

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (65件)：

• 1) 代表的な例としてP. J. Dean: Phys. Rev. B4 (1971) 2596.
• 2) 例えば, N. M. Johnson, S. G. Bishop and G. D. Watkins, ed.: Microscopic Identification of Electronic Defects in Semiconductors, Mate-rials Research Society Symposia Proceedings, Vol. 46 (Materials Research Society, 1985).
• 3) J. J. Harris and B. A. Joyce: Surf. Sci. Lett. 108 (1981) L90.
• 4) C. E. C. Wood: Surf. Sci. Lett. 108 (1981) L 441.
• 5) J. J. Harris, B. A. Joyce, and P. J. Dobson: Surf. Sci. Lett. 108 (1981) L90.

タイトルに関連する用語 (1件)： 結晶成長