けい素と水素原子の直接反応により作成した水素化非晶質けい素の諸性質

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J-GLOBAL ID：200902079269612670 整理番号：86A0354024

Some properties of hydrogenated amorphous silicon produced by direct reaction of silicon and hydrogen atoms.

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巻： 53 号： 2 ページ： 93-103 発行年： 1986年02月
JST資料番号： H0004B ISSN： 1364-2812 CODEN： PMABDJ 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

標記の方法で作成した水素化非晶質けい素の電気抵抗,光吸収,光...

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非晶質・液体金属の電子伝導 , 光伝導,光起電力 , 半導体の可視・紫外スペクトル , 半導体のルミネセンス

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