基板の向きを種々変えてマグネトロンスパッタリングで付けたTiN膜の多孔度の電気化学的測定

FRELLER H; LORENZ H P

文献

J-GLOBAL ID：200902079792137307 整理番号：87A0253385

基板の向きを種々変えてマグネトロンスパッタリングで付けたTiN膜の多孔度の電気化学的測定

Electrochemically measured porosity of magnetron sputtered TiN films deposited at various substrate orientations.

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巻： 4 号： 6 ページ： 2691-2694 発行年： 1986年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

研摩したステンレス鋼を基板としてターゲットに対する向きを平行...

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その他の無機化合物の薄膜 , 金属材料へのセラミック被覆

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