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J-GLOBAL ID：200902081107649990   整理番号：90A0813347

N-アリールメチルアデニンの光加溶媒分解 含窒素化合物のための,光による除去が可能な保護基としてのN-アリールメチル基

The photosolvolysis of N-arylmethyladenines. Photoremovable N-arylmethyl protective groups for N-containing compounds.

著者 (3件)： ER-RHAIMINI A (Groupe de Recherches de Chimie organique et Bioorganique, Angers, FRA) ,  MOHSINALY N (Groupe de Recherches de Chimie organique et Bioorganique, Angers, FRA) ,  MORNET R (Groupe de Recherches de Chimie organique et Bioorganique, Angers, FRA)
資料名： Tetrahedron Letters  (Tetrahedron Letters)
巻： 31  号： 40  ページ： 5757-5760  発行年： 1990年09月24日 
JST資料番号： E0366A  ISSN： 0040-4039  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3-ハロゲノフェニル基や3,5-ジメトキシフェニル基をアリー...

シソーラス用語： 光分解 ,...
準シソーラス用語： アデニン ,...

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分類 (1件)： プリン,プテリジン  (CF07105E)

タイトルに関連する用語 (3件)： 加溶媒分解 ,  含窒素化合物 ,  保護基