’92最新半導体プロセス技術 電極・配線形成技術 0.6~0.3μm時代の電極・配線形成技術

岡本龍郎; 小谷秀夫; 平山誠

文献

J-GLOBAL ID：200902082331996031 整理番号：92A0020471

’92最新半導体プロセス技術電極・配線形成技術 0.6~0.3μm時代の電極・配線形成技術

Latest semiconductor processing technology in 1992.Electrode and wiring formation technology.Electrode and wiring formation technology in the 0.3 to 0.6 μm age.

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資料名：
巻： 10 号： 16 ページ： 327-333 発行年： 1991年11月
JST資料番号： Y0509A ISSN： 0286-5025 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

電極・配線技術に注目すると,微細な配線および接続孔の寄生抵抗...

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半導体集積回路

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