シリコンをベースにした三次元神経インタフェイス 皮質内部の配列電極の製造工程

CAMPBELL P K; JONES K E; HUBER R J; HORCH K W; NORMANN R A

文献

J-GLOBAL ID：200902085264381166 整理番号：91A0740328

シリコンをベースにした三次元神経インタフェイス皮質内部の配列電極の製造工程

A Silicon-Based, Three-Dimensional Neural Interface: Manufacturing Processes for an Intracortical Electrode Array.

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巻： 38 号： 8 ページ： 758-768 発行年： 1991年08月
JST資料番号： C0236A ISSN： 0018-9294 CODEN： IEBEAX 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

慢性的皮質刺激用の三次元配列電極の製造法を改良した。配列は4...

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シリコンをベースにした三次元神経インタフェイス 皮質内部の配列電極の製造工程

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