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J-GLOBAL ID：200902086494697444   整理番号：86A0001462

LSIウェハパターンからの反射光の解析 LSIウェハ上異物の自動検出技術の研究

Analysis of the light reflected from the micro-patterns on the LSI surfaces. Automatic detecting technique for patterned wafer surface contaminants inspection.

著者 (2件)： 小泉光義 (日立生産技研) ,  秋山伸幸 (日立生産技研)
資料名： 計測自動制御学会論文集  (Transactions of the Society of Instrument and Control Engineers)
巻： 21  号： 8  ページ： 856-862  発行年： 1985年08月 
JST資料番号： S0104A  ISSN： 0453-4654  CODEN： KJSRA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： パターンからの反射光と異物散乱光の偏光特性の相違に着目し,前...

シソーラス用語： 超LSI ,...
準シソーラス用語： LSIウェハ

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分類 (1件)： 半導体集積回路  (NC03162T)

引用文献 (7件)：

• 1) 小泉光義: 最新半導体工場自動化システム総合技術集成, 333/346, サイエンスフォーラム (1984)
• 2) Ron Iscoff: Wafer Defect Detection Systems, Semiconductor International, 5-11, 34/53 (1982)
• 3) Aaron D. Gara: Automatic Microcircuit and Wafer Inspection, Electronics Test, 4-5, 60/70 (1981)
• 4) W. J. Alford, et al.: Laser Scanning Microscopy, Proc. IEEE, 70-6, 641/651 (1982)
• 5) 秋山伸幸, 他: 偏光レーザによるパターン付試料上の異物検査の自動化, 計測自動制御学会論文集, 17-2, 77/82 (1981)

タイトルに関連する用語 (7件)： LSI ,  ウェハ ,  反射光 ,  解析 ,  異物 ,  自動検出 ,  研究