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J-GLOBAL ID：200902087705116431   整理番号：91A0449564

NH₄FとHFの両水溶液を使って調製したSi(111)表面の比較

Comparison of Si(111) surfaces prepared using aqueous solutions of NH₄F versus HF.

著者 (4件)： HIGASHI G S (AT&T Lab., New Jersey) ,  BECKER R S (AT&T Lab., New Jersey) ,  CHABAL Y J (AT&T Lab., New Jersey) ,  BECKER A J (AT&T Lab., New Jersey)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 58  号： 15  ページ： 1656-1658  発行年： 1991年04月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： HFとNH₄F溶液に天然酸化物を溶解し...

シソーラス用語： ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (5件)： NH4F ,  HF ,  水溶液 ,  調製 ,  Si