RFスパッタ法で作製したパラジウム薄膜中の水素の拡散係数

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J-GLOBAL ID：200902088581399614 整理番号：90A0027806

Diffusion coefficient of hydrogen in palladium films prepared by RF sputtering.

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資料名：
巻： 53 号： 11 ページ： 1085-1088 発行年： 1989年11月
JST資料番号： G0023A ISSN： 0021-4876 CODEN： NIKGAV 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

電気化学的方法により薄膜中の水素濃度とその拡散係数を278~...

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金属中の拡散 , 金属薄膜

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