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J-GLOBAL ID：200902090010514348   整理番号：85A0080930

エチレンジアミンおよびEDTA溶液中における銅の錯体形成と電析挙動

Electrodeposition behavior and complexation of copper in etylenediamine and etylenediaminetetraacetic acid (EDTA) solution.

著者 (3件)： 吉村俊一 (宇都宮大大学院) ,  久保田昇 (熊本県工試) ,  佐藤栄一 (宇都宮大工)
資料名： 金属表面技術  (Journal of the Metal Finishing Society of Japan)
巻： 35  号： 11  ページ： 521-526  発行年： 1984年11月 
JST資料番号： G0441A  ISSN： 0026-0614  CODEN： KZHGAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： エチレンジアミン銅,EDTA銅およびその混合溶液からの銅の電...

シソーラス用語： 銅 ,...
準シソーラス用語： エチレンジアミン ,...

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分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

引用文献 (8件)：

• 1) 吉村俊一, 堀越徹, 久保田昇, 佐藤栄一; 金表誌, 34, 391 (1983)
• 2) V. G. Levich; Physicochemical Hydrodynamics, Prentice-Hall, Inc., Englewood Cliffs, N.J. (1962) p. 60
• 3) 金野英隆, 後藤克己, 永山政一; 日化, 1974, 226
• 4) W. M. Latimar; Oxidation Potential, Prentice-Hall, Inc., Englewood Cliffs, N.J. (1952) 2nd ed., Cap. 11, 12
• 5) L. G. Sillen, A. E. Martel; Stability Constants of Metal-Ion Complexes, Special Publication No. 17, The Chemical Society, London (1964) p. 120, 371, 636

タイトルに関連する用語 (7件)： エチレンジアミン ,  EDTA ,  溶液 ,  銅 ,  錯体形成 ,  電析 ,  挙動